曲线怎么变了？

仪器：BM6010
同一个标本，只做了一次GLU（双试剂：HK法），十点钟自曲线是图1，过一会儿曲线变成图2了，为什么纵轴比例变了？软件的原因吗？
图3、4为GLU水平1、2的质控反应曲线（在控），为什么加了试剂2后，在25点左右曲线是下降的呢？同样是终点法TP（单试剂）的曲线却没有下降，科室另一台东芝2000FR，用的是同一厂家的试剂，GLU反就曲线却没有像BM6010那样有下降？图5为GLU参数。请老师们解惑！

没什么大惊小怪的，只是纵坐标刻度放大了，那你的曲线性状也被放大了，就和放大镜看东西一个道理。

havenomoney 发表于 2017-7-8 10:05
没什么大惊小怪的，只是纵坐标刻度放大了，那你的曲线性状也被放大了，就和放大镜看东西一个道理。 ...

那曲线为什么在25点左右下降了呢

HK是啥方法，代码我一般不记的，只晓得有邻甲苯安法，过氧化物酶法，已糖激酶法，你要分析反应曲线首先得知道是哪一点加样本，哪一点加试剂。然后翻看以前正常的曲线是啥样子。现在曲线有问题是哪个地方有问题。是加了试剂后出现的？还是反应过程中出现的。反应过程中出现的提示清洗站有滴水现象。加试剂过程中出现说明有试剂针加样不准或者是有交叉污染。当然也有可能是软件的原因或者是光路的原因。还要看看光度计读数看下灯炮数值是否在正常范围内。

小二检验师 发表于 2017-7-9 17:13
HK是啥方法，代码我一般不记的，只晓得有邻甲苯安法，过氧化物酶法，已糖激酶法，你要分析反应曲线首先得知 ...

已糖激酶法，我记得如果是反应中冲洗站滴水应该会出现跳点？

看不清参数里的副波长，HK法的GLU是双试剂终点法，加入R2前要扣除一个空白，至少你的参数里面没有体现这个

钱小帅 发表于 2017-7-12 15:26
看不清参数里的副波长，HK法的GLU是双试剂终点法，加入R2前要扣除一个空白，至少你的参数里面没有体现这个 ...

副波长是684，没有扣除空白应该不会影响曲线

曲线是缓慢下降的。像这种情况你要看下其它的项目正不正常。像曲线有问题的故障是很难判断的，有时候你要观察几天才看得出来。反复做重复性。灯泡多久没换了？水机的水质是否达标？换新试剂结果好不好？每次碰到曲线问题很多工程师都是头大的。我经常碰到曲线问题都是观察几天才看得出哪里有问题，你得把整个机器的整体情况以及对每个项目的反应都要比较了解才搞得明白哪里有问题。据我经验来看。你得排除以下几方面原因。一是灯泡。二是水质，三是试剂。四是是否存在交叉污染？试剂针或者搅拌棒清洗引起的交叉污染比较多见。你的机器是不是带清洗功能。是双试剂针还是单试剂针。

小二检验师 发表于 2017-7-14 22:35
曲线是缓慢下降的。像这种情况你要看下其它的项目正不正常。像曲线有问题的故障是很难判断的，有时候你要观 ...

谢谢你的解说，从试剂仓库拿来新的批号的试剂换上后，曲线正常了